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硅中常见的B掺杂和As掺杂都是深能级掺杂。
都是
能级
掺杂
发布时间:
2023-09-15 10:43:32
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1.
对于p型半导体,费米能级随掺杂浓度的变化情况为: 选项: A、费米能级随掺杂浓度的增加向禁带中线移动 B、费米能级随掺杂浓度的增加向价带顶移动 C、费米能级随掺杂浓度的增加向导带底移动 D、费米能级随掺杂浓度的增加向施主能级移动
2.
重掺杂n型硅中电子的迁移率较相同掺杂浓度下空穴的迁移率大。
3.
对于N型半导体,随着掺杂浓度增大,费米能级()
4.
杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于( )。 选项: A、温度 B、掺杂工艺 C、掺杂浓度 D、掺杂工艺
5.
杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于( )。选项: A:温度; B:掺杂工艺; C:掺杂浓度; D:掺杂工艺
6.
在掺杂半导体中,多子的深度主要取决于( )。 选项: A: 温度 B: 掺杂浓度 C: 掺杂工艺 D: 晶体缺陷
7.
通常采用重掺杂硅与金属接触来实现互连系统的欧姆接触,此时硅的掺杂浓度N> atoms/cm3。 选项: A、10∧18 B、10∧19 C、10∧20 D、10∧21
8.
食品掺伪的主要形式是( )。 A: 掺杂 B: 掺假、掺杂和伪造 C: 伪造 D: 掺假
9.
食品掺伪的主要形式是 选项: A、掺假 B、掺假、掺杂和伪造 C、掺杂 D、伪造
10.
食品掺伪的主要形式是 选项:A:掺假,B:掺杂,C:伪造,D:掺假、掺杂和伪造
11.
食品掺伪的主要形式是选项: A:掺假、掺杂和伪造 B:伪造 C:掺假 D:掺杂
12.
杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于( )。选项: A:掺杂工艺 C.掺杂浓度 D.晶格缺陷; B:温度; C:掺杂浓度 ; D:晶格缺陷
13.
通常采用重掺杂硅与金属接触来实现互连系统的欧姆接触,此时硅的掺杂浓度N> atoms/cm3。 选项: A、10∧18 B、10∧19 C、10∧20 D、10∧21
14.
食品掺伪的主要形式是选项: A:掺假 B:掺杂 C:伪造 D:掺假、掺杂和伪造
15.
离子注入法掺杂工艺通常无法精确控制掺杂区域。选项: A:对 B:错
16.
扩散掺杂时多晶硅的扩散系数比单晶硅的扩散系数 得多。
17.
N型杂质半导体中,多子是______,其浓度主要由______决定;少子是______,其浓度主要由______决定。选项: A:自由电子,温度;空穴,掺杂; B:空穴,掺杂;自由电子,温度; C:自由电子,掺杂;空穴,温度; D:空穴,温度;自由电子,掺杂
18.
在P型半导体中,电子浓度主要由( )决定 选项: A、温度 B、掺杂 C、离子 D、硅材料
19.
食品掺伪的主要形式是A.掺假B.掺假、掺杂和伪造C.掺杂D.伪造
20.
食品掺伪的主要形式是A.掺假B.掺杂C.伪造D.掺假、掺杂和伪造
21.
离子注入法掺杂工艺通常无法精确控制掺杂深度。选项: A:对 B:错
22.
砷化镓通过掺杂Al、In、P等元素可以调节其禁带宽度,通过掺杂Si元素分别替代Ga或者As离子可实现n型或者p型掺杂。(
)
23.
离子注入法掺杂工艺通常无法精确控制掺杂浓度。选项: A:对 B:错
24.
杂质半导体中,多数载流子的浓度主要取决于选项: A:温度; B:掺杂工艺; C:掺杂浓度; D:晶格缺陷
25.
杂质半导体中多数载流子的浓度主要取决于()。 选项: A、 温度 B、 掺杂工艺 C、 掺杂浓度 D、 晶体缺陷
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