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光刻技术中的反刻工艺,通常应用于()的情况。
工艺
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发布时间:
2023-09-15 10:43:38
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1.
光刻工艺中,底膜处理包括清洗、烘干和( ),比如在硅片表面氧化层上光刻时,常涂敷( )作为底胶。
2.
课件中以下哪个不属于龙泉青瓷的综合装饰工艺?( ) 选项: A:跳刀工艺 B:露胎工艺 C:刻釉工艺 D:刻花工艺
3.
课件中以下哪个不属于龙泉青瓷的综合装饰工艺?( )选项: A:跳刀工艺 B:露胎工艺 C:刻釉工艺 D:刻花工艺
4.
快速成形制造工艺中,哪种工艺不必采用专门的支撑结构?选项: A:熔融沉积制造(FDM)工艺; B:选择性激光烧结(SLS)工艺; C:立体光刻(SL)工艺; D:分层实体制造(LOM)工艺
5.
关于光刻和压印两种图形复制技术下列哪种说法正确: 选项: A:两者都可用于制备纳米图形; B:纳米压印技术对操作环境的要求更高; C:纳米压印技术可以在圆柱形衬底上制备图形; D:纳米光刻版材料的选择性更广; E:纳米光刻工艺成本更低; F:有些纳米压印法可采用柔性材料来制备模板
6.
光刻工艺中“涂胶”的是( )选项: A:在玻璃表面涂光刻胶; B:在边框处涂封框胶; C:在灌注口涂封口胶; D:在引线连接部位涂银点胶
7.
简述光刻加工原理及其基本技术步骤。
8.
当前应用于建筑领域的 3D 打印技术主要有以下哪三种?( )选项: A:D 型工艺 B:轮廓工艺 C:混凝土打印 D:实体工艺
9.
反刻是一种传统的平坦化技术,它能够实现全局平坦化。( )选项: A:对 B:错
10.
铭牌打印需用到以下哪种设备。 () 选项: A:铭牌打印机 B:办公打印机 C:气动刻打机 D:激光刻打机
11.
反求设计中的最难点是( )。选项: A:反求精度; B:反求材料; C:反求工艺; D:反求性能
12.
下列塑料成型工艺中,主要应用于热塑性塑料的是( )选项: A:注射成型工艺 B:压缩成型工艺 C:压注成型工艺 D:挤出成型工艺
13.
青白瓷刻花、影青刻花,是唐代景德镇窑的刻花装饰工艺。( ) 选项: A:对 B:错
14.
在曝光之前需要将掩膜版上的对准记号与硅片上的对准几号对准,该工序称为选项: A:对准; B:套刻; C:光刻; D:刻蚀
15.
HAZOP研究中的“偏差〞是指使用关键词系统地对每个节点的工艺参数进展研究发生一系列偏离工艺指标的情况;偏差的通常形式为“〔 〕〞。A、引导词 工艺参数B、原因 结果C、原因 工艺参数D、后果 工艺参数
16.
影响光刻分辨率的参数是( )选项: A:A焦深(f); B:工艺因子(k); C: 数值孔径(NA); D:数值孔径
17.
光固化立体光刻工艺使用的材料是 选项: A:ABS和PLA B:尼龙粉末 C:光敏树脂 D:工程塑料
18.
相比于其他单个制造工艺来说,光刻对芯片集成度的发展有着革命性的贡献。 选项: A、正确 B、错误
19.
HAZOP研究中的“偏差”是指使用关键词系统地对每个节点的工艺参数进行研究发生一系列偏离工艺指标的情况;偏差的通常形式为“()”。 选项: A、引导词+工艺参数 B、原因+结果 C、原因+工艺参数 D、后果+工艺参数
20.
HAZOP研究中的“偏差”是指使用关键词系统地对每个节点的工艺参数进行研究发生一系列偏离工艺指标的情况;偏差的通常形式为“()”。A、引导词 工艺参数B、原因 结果C、原因 工艺参数D、后果 工艺参数
21.
以下哪种光刻机属于第四代光刻机?( )选项: A:接触式光刻机 B:接近式光刻机 C:扫描投影式光刻机 D:浸没式步进扫描投影光刻机
22.
常用的光刻工艺所使用的光是( )选项: A:红外光; B:太阳光; C:可见光; D:深紫外光
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